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杜邦和Shipley将生产157纳米的减反射涂料
2001年03月08日    阅读量:7540    新闻来源:unknow  |  投稿
杜邦技术公司和Shipley已经签署了一个共同开发协议生产完全按配方生产的光 刻胶和减反射涂料,用于下一代集成电路板。今天最先进的电子芯片有些元件只有 130纳米大小。为了将这些元件减小到70纳米,以便使芯片上的晶体管数量增加三 倍,制造商必须求助于以157纳米波长为基础的微印刷术。这就需要新一代的光刻胶 和减反射涂料。杜邦和Shipley说,他们正在开发的系统将能够达到生产70纳米设备 的精确度。这两个公司正在寻求集成电路制造商共同开发,有望于2003年向市场推出 这项技术。
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