通过三点弯曲和有限元模拟，研究了聚脲涂层对涂层瓷砖抗弯强度的影响机理。

研究了杨氏模量和聚脲的涂覆位置对涂覆的陶瓷样品的影响。具有较低模量聚脲（PUR240 MPa）的背面涂层陶瓷可能会由于缓冲作用而降低弯曲强度，从而降低了基材底部中心周围的拉伸应力涂料在线coatingol.com。较高模量的聚脲涂层（PUR866 MPa）对涂层陶瓷样品的抗弯强度有重大影响。在背涂中，与较低的模量相比，较高模量的涂层将涂覆的陶瓷样品的抗弯强度提高了近两倍。这种较高模量的涂层增强了样品中的应力分布以及储能。

缓冲作用有助于降低应力集中

根据有限元模拟的结果，研究了在三点弯曲试验中影响样品内应力分布的机理。缓冲效应显示出较低模量涂层对应力分布的主要贡献。缓冲效应发生在支撑销附近，并有助于应力消散并降低基板中心底部的应力集中。相反，在较高模量的聚脲涂层的情况下，增稠作用起重要作用。中心背面涂有较高模量的聚脲的作用是增加陶瓷的厚度，并主导对涂层陶瓷样品抗弯强度的影响。

该研究发表于：涂料技术与研究杂志2019年7月，第16卷，第4期，第1201至1211页。